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余承东称中国正研发EUV设备,量产时间未明

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AI 综述

华为高管余承东称,中国正研发制造先进晶片所需的极紫外光刻(EUV)设备;但国内现阶段先进晶片制造仍依赖深紫外(DUV)光刻,研发进度和量产时间表尚未公布。

AI 根据报道生成 · 2 小时前更新

报道时间线

沿着报道,了解事件的不同侧面。

10月9日
  1. 联合早报
    余承东称中国正研发极紫外光刻设备,华为以逻辑折叠提升晶片性能

    余承东称中国正研发制造先进晶片所需的极紫外光刻设备,但现阶段国内先进晶片制造仍依赖深紫外光刻,且未透露研发进度或量产时间表。余承东介绍,华为通过软硬件协同和“逻辑折叠”提升晶片性能;搭载麒麟9050 Pro的Mate 90 Pro Max等机型整机性能较上一代提升31%,华为称未来将在更多智能手机中采用该技术。

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