余承东称中国正研发EUV设备,量产时间未明
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余承东称中国正研发EUV设备,量产时间未明
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AI 综述
华为高管余承东称,中国正研发制造先进晶片所需的极紫外光刻(EUV)设备;但国内现阶段先进晶片制造仍依赖深紫外(DUV)光刻,研发进度和量产时间表尚未公布。
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最新进展10月9日 16:35
余承东称中国正研发极紫外光刻设备,华为以逻辑折叠提升晶片性能报道时间线
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10月9日
- 联合早报余承东称中国正研发极紫外光刻设备,华为以逻辑折叠提升晶片性能
余承东称中国正研发制造先进晶片所需的极紫外光刻设备,但现阶段国内先进晶片制造仍依赖深紫外光刻,且未透露研发进度或量产时间表。余承东介绍,华为通过软硬件协同和“逻辑折叠”提升晶片性能;搭载麒麟9050 Pro的Mate 90 Pro Max等机型整机性能较上一代提升31%,华为称未来将在更多智能手机中采用该技术。
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